„Intel“ generalinis direktorius Brian Krzanich visiems atskleidė, kad dar šiemet kompanija pradės gaminti pirmuosius lustus, kurie bus paremti 10 nm litografija. Tiesa, tokių lustų kiekis bus labai ribotas. „Intel“ kompanijos galva, teigia, kad viskas vyksta taip kaip planuota. Bet visi pamena, kad originalus planas 10 nm litografiją buvo numatęs įvaldyti dar 2016 metais.

Nors pirmuosius 10 nm lustus turėtume pamatyti dar šiemet, bet tai tikrai nebus „Cannon Lake“ procesoriai. Jų gamyba bus šlifuojama 2018 metų pirmame pusmetyje, o realaus produktų išleidimo reikėtų laukti 2018 metų antroje pusėje.

Pažvelgę į „Intel“ skaidrę matome, kad kompanijos litografija kone visada yra žingsneliu priekyje nei konkurentų, nes į vieną kvadratinį milimetrą leidžia sutalpinti daugiau tranzistorių. O kuo daugiau tranzistorių, tuo geresnė sparta.

Categories: Hardware / Geležis

Parašykite komentarą

El. pašto adresas nebus skelbiamas. Būtini laukeliai pažymėti *